快速退火工艺

时间：2026-09-30 08:59:00 浏览：1002次

快速退火工艺

RTP（Rapid Thermal Processing）快速热处理，是在非常短的时间内将整个硅片加热至400~1300℃温度范围内的一种方法，相对于炉管退火，它具有热预算少，硅中杂质运动小，玷污小和加工时间短等特点。

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